儀器簡介：

光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)

原產(chǎn)國: 韓國，**能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī)，高性價比

型號：KCMA-100；

又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；

ECOPIA為全球**的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上*早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多**企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

感謝南開大學(xué)，中科院半導(dǎo)體所，中科院長春應(yīng)化所，中科院物理所，浙江師范大學(xué)使用此設(shè)備做課題研究！！

此型號光刻機(jī)是所有進(jìn)口設(shè)備中性能價格比**的型號，達(dá)到歐美品牌的對準(zhǔn)精度，CCD顯示屏對準(zhǔn)更為方便，液晶觸摸屏操作，采用歐司朗紫外燈，壽命長。整機(jī)效果皮實耐用，正常使用3年內(nèi)不會出問題！！

目前，上海藍(lán)光已采用該公司全自動型光刻機(jī)做LED量化生產(chǎn)，證明其品質(zhì)達(dá)到LED產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求！！而且已經(jīng)成功提供圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻工藝設(shè)備.

技術(shù)參數(shù)：

- 基片尺寸：4、6、8、12、25英寸，其他尺寸可定制；

- 光束均勻性：<±3%；

- 曝光時間可調(diào)范圍：0.1 to 999.9秒；

- 對準(zhǔn)精度：0.6-1微米

- 分辨率：1微米；

- 光束輸出強(qiáng)度：15-25mW/cm2；

主要特點：

- 光源強(qiáng)度可控；

- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；

- 系統(tǒng)控制：手動、半自動和全自動控制；

- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào))，Proximity接近模式， 投影模式；

- 真空吸盤范圍可調(diào)；

- **技術(shù)：可雙面對準(zhǔn)，可雙面光刻，具有IR和CCD模式

-兩個CCD顯微鏡系統(tǒng)，**放大1000倍，顯示屏直接調(diào)節(jié)，比傳統(tǒng)目鏡對準(zhǔn)更方便快捷，易于操作。

- 特殊的基底卡盤可定做；

- 具有楔形補(bǔ)償功能；