該設備在非導電和微導電試樣表面制造等離子體形成金屬薄膜，是電子顯微鏡（SEM）分析時必須進行的預處理設備。

主要特點

1.7英寸觸摸屏，操作更簡單

2.抽真空→ 自動噴金 → 卸真空 觸摸一步完成

3.*多可以儲存10個常用使用條件

4.可以同時裝載Φ14㎜ 大小的樣品托

5.電壓值為1 to 10mA，防止噴金過程中樣品損傷

6.外觀設計小巧簡約，只需一點點放置空間

Vacuum Degree 2.0 x 10-2torr

Ion Current 1 to 10mA (1mA/step)

Target Material Au or Pt

Chamber Size Φ140mm(D) x 100mm(H)

Sample Stage Φ50mm(D) x 30mm(H)

Target Size Φ50mm(D) x 0.1(T)

Sputter Time 1 to 600sec (1sec/step)

Vacuum Pump 100L/min， Rotary Pump (Recommended)

Dimension 380(W)x 240(L) x 250(H)mm， 10kg

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