濺射系統

樣品室大小

直徑120mm x 120mm 高

靶材

Au 靶為標配， Au:Pd， Pt， Pt:Pd （選件）;

大?。褐睆?/span>57mm x 0.1mm厚

樣品臺

可以裝載12個SEM樣品座，高度可調范圍為50mm

濺射控制

微處理器控制，安全互鎖

濺射電流

5~45mA可調

濺射頭

低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環繞暗區護罩

計量表

真空： Atm - 0.001mbar，電流：0~50mA

厚度監控 (選件)

使用MTM-10高分辨厚度監控儀（選件）精確測定所鍍膜的厚度

控制方法

具有氣體換氣和泄氣功能，帶有“暫?！笨刂频臄底侄〞r器（5－300s）

真空系統

真空泵

2級直連式高速真空泵

抽氣速率

3.0 m3/小時，真空度到 0.1mb所需時間30秒.

極限真空

5 x 10-3mba

桌上系統

真空泵可置于抗震臺上，全金屬集成耦合系統