特點(diǎn)

• 可在紫外和可見(jiàn)（250至800nm）波長(zhǎng)區(qū)域中測(cè)量橢圓參數(shù)

• 可分析納米級(jí)多層薄膜的厚度

• 可以通過(guò)超過(guò)400ch的多通道光譜快速測(cè)量Ellipso光譜

• 通過(guò)可變反射角測(cè)量，可詳細(xì)分析薄膜

• 通過(guò)創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)和追加菜單注冊(cè)功能，增強(qiáng)操作便利性

• 通過(guò)層膜貼合分析的光學(xué)常數(shù)測(cè)量可控制膜厚度/膜質(zhì)量

測(cè)量項(xiàng)目

• 測(cè)量橢圓參數(shù)（TANψ，COSΔ）

• 光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析

• 薄膜厚度分析

用途

• 半導(dǎo)體晶圓
  柵氧化膜，氮化膜
  SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，poly-Si，ZnSe，BPSG，TiN
  光學(xué)常數(shù)（波長(zhǎng)色散）

• 復(fù)合半導(dǎo)體
  AlxGa（1-x）多層膜、非晶硅

• FPD
  取向膜
  等離子顯示器用ITO、MgO等

• 各種新材料
  DLC（類金剛石碳）、超導(dǎo)薄膜、磁頭薄膜

• 光學(xué)薄膜
  TiO2，SiO2多層膜、防反射膜、反射膜

• 光刻領(lǐng)域
  g線（436nm）、h線（405nm）、i線（365nm）和KrF（248nm）等波長(zhǎng)的n、k評(píng)估

 原理

 包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上，對(duì)于反射光的橢圓偏振光進(jìn)行測(cè)量。s波和p波的位相和振幅獨(dú)立變化，可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù)，即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。

產(chǎn)品規(guī)格

*1可以驅(qū)動(dòng)偏振器，可以分離不感帶有效的位相板。
*2取決于短軸?角度。
*3對(duì)應(yīng)微小點(diǎn)（可選）
*4它是使用VLSI標(biāo)準(zhǔn)SiO2膜（100nm）時(shí)的值。
*5可以在此波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行選擇。
*6光源因測(cè)量波長(zhǎng)而異。
*7選擇自動(dòng)平臺(tái)時(shí)的值。

測(cè)量示例

以梯度模型分析ITO結(jié)構(gòu)[FE-0006]

作為用于液晶顯示器等的透明電極材料ITO（氧化銦錫），在成膜后的退火處理（熱處理）可改善其導(dǎo)電性和色調(diào)。此時(shí)，氧氣狀態(tài)和結(jié)晶度也發(fā)生變化，但是這種變化相對(duì)于膜的厚度是逐漸變化的，不能將其視為具有光學(xué)均勻組成的單層膜。
以下介紹對(duì)于這種類型的ITO，通過(guò)使用梯度模型，從上界面和下界面的nk測(cè)量斜率。

考慮到表面粗糙度測(cè)量膜厚度值[FE-0008]

當(dāng)樣品表面存在粗糙度（Roughness）時(shí)，將表面粗糙度和空氣（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模擬為“粗糙層”，可以分析粗糙度和膜厚度。以下介紹了測(cè)量表面粗糙度為幾nm的SiN（氮化硅）的情況。

使用非干涉層模型測(cè)量封裝的有機(jī)EL材料[FE-0011]

有機(jī)EL材料易受氧氣和水分的影響，并且在正常大氣條件下它們可能會(huì)發(fā)生變質(zhì)和損壞。因此，在成膜后立即用玻璃密封。以下介紹在密封狀態(tài)下通過(guò)玻璃測(cè)量膜厚度的情況。玻璃和中間空氣層使用非干涉層模型。

使用多點(diǎn)相同分析測(cè)量未知的超薄nk[FE-0014]

為了通過(guò)擬合*小二乘法來(lái)分析膜厚度值（d）需要材料nk。如果nk未知，則d和nk都被分析為可變參數(shù)。然而，在d為100nm或更小的超薄膜的情況下，d和nk是無(wú)法分離的，因此精度將降低并且將無(wú)法求出精確的d。在這種情況下，測(cè)量不同d的多個(gè)樣本，假設(shè)nk是相同的，并進(jìn)行同時(shí)分析（多點(diǎn)相同分析），則可以高精度、精確地求出nk和d。