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      >膜厚量測儀 FE-300

      膜厚量測儀 FE-300

      FE-300

      直接聯系

      大塚電子(蘇州)有限公司

      江蘇

      產品規格型號
      參考報價:

      面議

      品牌:

      大塚電子

      型號:

      FE-300

      關注度:

      4819

      產品介紹

      特 長

      薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析

      高性能的低價光學薄膜量測儀

      藉由**反射率光譜分析膜厚

      完整繼承FE-3000高端機種90%的強大功能

      無復雜設定,操作簡單,短時間內即可上手

      線性*小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光系數)

      測量項目

      • **反射率測量

      • 膜厚解析(10層)

      • 光學常數解析(n:折射率、k:消光系數)

      產品規格


      FE-300V

      FE-300UV

      FE-300NIR※1

      對應膜厚

      標準型

      薄膜型

      厚膜型

      超厚膜型

      樣品尺寸

      **8寸晶圓(厚度5mm)

      膜厚范圍

      100nm ~ 40μm

      10nm ~ 20μm

      3μm ~ 300μm

      15μm ~ 1.5mm

      波長范圍

      450nm ~ 780nm

      300nm ~ 800nm

      900nm ~ 1600nm

      1470nm ~ 1600nm

      膜厚精度

      ±0.2nm以內※2

      -

      重復再現性(2σ)

      ±0.1nm以內※3

      -

      測量時間

      0.1s ~ 10s以內

      量測口徑

      約φ3mm

      光源

      鹵素燈

      UV用D2燈

      鹵素燈

      鹵素燈

      通訊界面

      USB

      尺寸重量

      280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg

      軟體功能

      標準功能

      波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析

      選配功能

      材料分析軟件、薄膜模型解析、標準片解析

      ※1 請于本公公司聯系聯系我們
      ※2 對比VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si),范圍值同保證書所記載
      ※3 測量VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si)同一點位時之重復再現性。(擴充系數2.1)

      應用范圍

      半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
      光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)

      測量范例

      • PET基板上的DLC膜

      • item_0005FE-300_sub001.gif

      • Si基板上的SiNx

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      膜厚量測儀 FE-300

      FE-300

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