陜西罡正窯爐科技有限公司的GZ-CVD 回轉(zhuǎn)爐是一款專為高溫化學(xué)氣相沉積（CVD）工藝設(shè)計(jì)的核心設(shè)備，尤其在硅碳負(fù)極材料制備、催化劑合成及納米材料包覆等領(lǐng)域表現(xiàn)突出。以下從技術(shù)特點(diǎn)、應(yīng)用場(chǎng)景、性能參數(shù)及服務(wù)支持等方面進(jìn)行詳細(xì)解析：

一、技術(shù)特點(diǎn)與核心優(yōu)勢(shì)

1. 精準(zhǔn)溫度與氣氛控制

• 采用多區(qū)獨(dú)立控溫技術(shù)，溫度精度可達(dá) ±1℃，支持硅碳負(fù)極制備中硅沉積（400-500℃）與碳包覆（650-750℃）的分步工藝需求。

• 配備高精度氣氛管理系統(tǒng)，可通入氮?dú)狻鍤獾榷栊詺怏w，爐內(nèi)氧含量控制在 0.1ppm 以下，并通過(guò)質(zhì)量流量計(jì)精確調(diào)節(jié)反應(yīng)氣體（如硅烷、乙炔）比例，確保工藝安全與穩(wěn)定性。

2. 動(dòng)態(tài)煅燒與均勻性設(shè)計(jì)

• 旋轉(zhuǎn) + 傾斜結(jié)構(gòu)：爐管轉(zhuǎn)速 0.5-2 轉(zhuǎn) / 分鐘，傾斜角度 0-1° 可調(diào)，使物料在爐內(nèi)均勻翻滾，避免結(jié)塊或局部過(guò)熱，尤其適合 CVD 碳包覆工藝中乙炔裂解沉積碳層的均勻性要求。

• 模塊化加熱區(qū)：例如硅碳負(fù)極制備設(shè)備分為預(yù)熱段、燒成段和冷卻段，各段獨(dú)立控溫，確保物料在不同階段的反應(yīng)充分性。

3. 材料兼容性與防污染

• 爐管材質(zhì)可選310S 耐熱合金或石英，避免金屬污染，滿足高純硅碳負(fù)極或磁性材料的處理需求。設(shè)備采用密封結(jié)構(gòu)，減少粉塵逸散，符合潔凈車間標(biāo)準(zhǔn)。

4. 自動(dòng)化與連續(xù)化生產(chǎn)

• 集成PLC 全自動(dòng)控制系統(tǒng)，可預(yù)設(shè)溫度曲線、氣體流量等參數(shù)，實(shí)現(xiàn)工藝可重復(fù)性。支持螺旋輸料器連續(xù)進(jìn)料，單機(jī)產(chǎn)能達(dá) 10-50kg/h，適合工業(yè)化量產(chǎn)。

二、典型應(yīng)用場(chǎng)景

1. 硅碳負(fù)極材料制備

• 核心工藝包括硅包覆（硅烷分解沉積納米硅）和碳包覆（乙炔裂解形成包覆碳層），通過(guò)動(dòng)態(tài)煅燒實(shí)現(xiàn)硅顆粒均勻分散與碳層緊密結(jié)合，緩解硅基材料體積膨脹問(wèn)題，提升鋰電池循環(huán)壽命。

2. 催化劑與納米材料合成

• 例如金屬催化劑載體的碳包覆改性、納米粉體的表面功能化修飾等，利用 CVD 技術(shù)在材料表面沉積特定元素或化合物，增強(qiáng)催化活性或穩(wěn)定性。

3. 其他高溫氣氛處理

• 適用于活性炭活化、稀土氧化物燒結(jié)、磁性材料熱處理等領(lǐng)域，支持氧化、還原或惰性氣氛下的動(dòng)態(tài)反應(yīng)。

三、服務(wù)支持與定制化能力

1. 全流程解決方案

• 陜西罡正提供從工藝開(kāi)發(fā)到設(shè)備實(shí)施的一站式服務(wù)，包括物料特性分析、參數(shù)優(yōu)化及生產(chǎn)線設(shè)計(jì)。例如硅碳負(fù)極設(shè)備可根據(jù)客戶需求定制爐管尺寸、加熱區(qū)數(shù)量及自動(dòng)化程度。

2. 售后服務(wù)體系

• 提供24 小時(shí)技術(shù)響應(yīng)和遠(yuǎn)程診斷，設(shè)備安裝調(diào)試期間工程師現(xiàn)場(chǎng)指導(dǎo)，并對(duì)操作人員進(jìn)行系統(tǒng)培訓(xùn)。定期回訪客戶，確保設(shè)備長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。