氣流磨粉碎碳化硅可精準(zhǔn)控制粒度在3～100微米（d97），粒型好、分布窄，適合高要求場(chǎng)景。流化床氣流磨無(wú)內(nèi)襯磨損、清潔環(huán)保且高效節(jié)能，通過(guò)優(yōu)化工藝參數(shù)可適應(yīng)不同硬度原料。

氣流磨粉碎碳化硅的粒度范圍

典型粒度：流化床氣流磨粉碎碳化硅的粒度分布集中，無(wú)過(guò)粉碎現(xiàn)象，粉碎細(xì)度通常可達(dá)d97: 3～100微米。

粒型與分布：粉碎后的碳化硅粒型好，粒度分布窄，適合對(duì)粒度要求較高的應(yīng)用場(chǎng)景。

影響粉碎粒度的因素

設(shè)備類型：

流化床氣流磨：通過(guò)高壓氣體加速物料顆粒，在噴嘴射流的交匯點(diǎn)發(fā)生沖擊碰撞實(shí)現(xiàn)粉碎，粉碎能力強(qiáng)，粒度控制精準(zhǔn)。

扁平式圓盤(pán)氣流磨：通過(guò)噴射旋流粉碎室并帶動(dòng)物料做循環(huán)運(yùn)動(dòng)，顆粒與機(jī)體及顆粒之間產(chǎn)生相互沖擊、碰撞、摩擦而粉碎，但粒度控制可能略遜于流化床氣流磨。

工藝參數(shù)：包括氣流壓力、噴嘴速度、分級(jí)器轉(zhuǎn)速等，這些參數(shù)直接影響粉碎效率和粒度分布。

原料特性：碳化硅的硬度、純度等特性也會(huì)影響粉碎效果。一般來(lái)說(shuō)，硬度越高、純度越高的碳化硅越難粉碎，但氣流磨通過(guò)優(yōu)化工藝參數(shù)仍可實(shí)現(xiàn)高效粉碎。

氣流磨粉碎碳化硅的優(yōu)勢(shì)

無(wú)內(nèi)襯磨損：流化床氣流磨無(wú)需內(nèi)襯即可研磨各種硬度的產(chǎn)品，機(jī)件磨損率低，適合長(zhǎng)期連續(xù)生產(chǎn)。

清潔環(huán)保：全系統(tǒng)密閉粉碎，粉塵少，噪音低，生產(chǎn)過(guò)程清潔環(huán)保。

高效節(jié)能：氣流磨由氣體提供的能量幾乎全部用在短程加速物料上，粉碎能力強(qiáng)，能耗相對(duì)較低