粉體行業在線展覽
金屬污染物M-SPEC系列
面議
芯暉裝備
金屬污染物M-SPEC系列
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金屬污染物M-SPEC系列
Full Automatic in Line System
Detection Limit: ~1ppt
Time to data: 30min ~ 1hrs
Detector: ICP-MS
Throughput: 3-6 per hour
自主研制的晶體生長、研磨拋光、光學量測、化學檢測、芯片測試等設備, 已廣泛運用于半導體集成電路制造的前、中、后道。
晶圓銅霧離子檢查設備-HD
晶圓表面及邊緣檢測設備-SEDI
晶圓邊緣檢測設備-EDI
XV1152 測試平臺
晶圓隱裂外觀檢測設備(ADS)
XB1152 測試平臺
晶圓隱裂外觀邊緣檢測設備-ADSE
金屬污染物M-SPEC系列
離子污染物I-SPEC系列
有機污染物O-SPEC系列
200mm硅片研磨設備
300mm硅片研磨設備