●SVTSMART（Scientific Materials and Applied Research Tool）脈沖激光沉積系統具有****的優越性。它可以把激光燒蝕技術和我們所擁有的其他沉積技術（如RF源）集成于一臺設備上。可以生長各種可能的材料。

●配有6個旋轉靶臺，實現多層薄膜結構生長。

●可與準分子激光和Yag激光相連。

●在線監控儀器做為可選件，為客戶提供高質量的工藝信息反饋。

●裝載室不但可以裝取樣品，還可以與其他生長設備或分析設備相連。

應用

●多元素復合氧化物

●高溫超導材料

●磁性材料、金屬材料

●低蒸汽壓材料

●MEMS

基本系統

腔室及真空泵

12’’ 快速門，250l/s 分子泵，全量程規

沉積源

靶臺，6X1’’(25mm) 靶，可以水平旋轉，

可Z方向移動

樣品臺

1’’(25mm)大小，可加熱至800^oC（1000^oC可選），可水平旋轉，可Z方向移動

在線工藝監控

石英晶振沉積速率監控儀

自動化

自動化裝置：

控制樣品溫度和旋轉

靶臺的位置控制

靶臺旋轉

氣體控制

速率及厚度計算（利用QCM輸出）

激光束掃描（可選）

激光束屏蔽控制

自動泵抽和充氣

差分泵抽結構

RHEED分析（可選）

裝載室壓強監控（可選）

主要特點

RF射頻等離子源(氧，氮)

升級高真空

增加進樣室

升級為Laser-MBE （L-MBE）系統

自動軟件控制

提供更潔凈的薄膜生長環境，**的溫度控制解決方案.