上市時間：2019年7月

來自賽默飛世爾科技的新 Helios Hydra 雙束電鏡為研究人員和工程師提供了表征寬范圍材料的可能性 "為科學家在一臺儀器中輕松選擇四種不同離子源的整合能力，將擴大和優化跨長度尺度研究材料性能的應用空間，"賽默飛世爾科技-材料和結構分析總裁Mike Shafer說，"我們新的 Helios Hydra DualBeam 系統提供了所需的靈活性，可以更好地分析樣品、改進結果并開發新的和增強的材料。

Helios NanoLab DualBeam

一直以來，Helios NanoLab 都綜合采用了 FEI 的**電子和離子光學系統、配件和軟件，能夠為尖端納米量級研究提供強大的解決方案。對于從事納米技術前沿研究的科學家，Helios NanoLab 能讓他們拓展研究邊界，為材料研究開辟新的天地。

借助**價值的亞納米 SEM 成像技術、S/TEM 超薄樣本制備能力以及*精確的原型設計功能，科學家能夠將 Helios NanoLab 當作理想的研究伴侶，為未來的科技進步開發創新的新材料和納米量級器件。

Helios NanoLab 的材料科學應用

在材料科學領域，研究人員面臨的挑戰是持續改善目前制造的材料和設備的質量。為了實現技術進步，在納米量級了解結構和成分細節至關重要。Helios NanoLab 設計用來以低至亞納米量級的分辨率提供多尺度、多維度洞察，讓研究人員能夠觀測樣本*微小的細節。Helios NanoLab 還可為原子分辨率 S/TEM 成像迅速制備**質量的樣本。此外，如果研究工作包括開發 MEMS 或 NEMS 器件，也可配備 Helios NanoLab 打造全功能原型。

Helios NanoLab 的電子工業應用

Helios NanoLab 是一款極其靈活的平臺，既能以極高的效率制備 TEM 樣本，又能開展高性能低電壓成像以分析高級邏輯和存儲器件。Helios Nanolab 具有大型和小型樣本室兩個配置，效率極高，并且是面向實驗室和近生產環境的低每樣本成本半導體分析工作流的關鍵組成部分。

Helios NanoLab 的自然資源應用

地質學家和礦藏工程師可以使用 Helios NanoLab 技術對鉆屑和微芯開展二維和三維巖石表征。它利用的 DualBeam 技術獨具特色，博采 FIB（聚焦離子束）銑削和 SEM（掃描電子顯微鏡）分析之長。借助自動化序列樣本銑削和成像功能，客戶可以創建二維序列圖像，進而開展三維容積重建。根據這些數據，客戶可以在微米至納米量級別觀測和量化孔隙網絡等紋理。

Helios NanoLab 的生命科學應用

要想在三維背景下了解生物事件，就必須采用專用的成像解決方案，而且這些成像解決方案應能以極高的分辨率呈現極小的細節，從而揭示出復雜網絡的超微結構和空間結構。Helios NanoLab 具有**的 SEM 性能和可靠、精確的 FIB 切片能力，還配備了高精度壓電工作臺，堪稱小型 DualBeam 平臺的**之選。出色的成像能力，輔以透鏡內和柱內檢測器提供的尖端高對比度檢測技術，能夠實現真正**的對比度。