上市時間：2019年8月

Spectra 300包括三種光源選項：XFEG Mono，X-FEG UltiMono和X-CFEG，專為*廣泛的樣品進行極端原子級成像和分析而設計。Spectra 200提供200 kV X-CFEG，是高對比度成像和化學分析的理想選擇。

生產合適的材料并做出正確的設計選擇對于解決諸如開發更安全和更持久的電池，創建更輕的材料以提高能效以及構建更快，更高容量的計算機處理器或存儲設備等挑戰至關重要。Spectra非常適合需要在原子水平上表征各種材料的學術或工業實驗室的研究人員。它允許他們制造輕質材料，如先進鋼，鋁合金或塑料，用于開發更安全或更省油的運輸。Spectra還支持新半導體結構和材料的研究，為未來的高性能電子器件提供必要的構建模塊。

Spectra新的檢測功能，使科學家和工程師能夠獲得以前難以獲得的原子級數據，以滿足更廣泛的應用需求。該平臺可以獲得極其光束敏感的材料和半導體結構的詳細圖像，包括金屬有機框架，沸石和聚合物，如果暴露在電子束中太長時間或在錯誤的電壓下可能會損壞或破壞。它還滿足了使用EDX（能量分散X射線）或EELS（電子能量損失光譜）等多種方式對大量原子級化學分析的不斷增長的需求。

特點和優點：