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      半導體行業專用儀器
      
				
      >高真空磁控濺射鍍膜機
      
			
      
			
      
				
			
      
		
      
		
		
      
			
      
				
      高真空磁控濺射鍍膜機
      
				
      高真空磁控濺射鍍膜機
      
			
      
			
      
				
      
					
      
															
      
						
      
				
      
					
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      卡喏科技（北京）有限公司
      
										
      北京
      
					
					
					
                    						
      
			
      
			
      產品規格型號
      
			
      
				
      
	
      參考報價：
      面議
      
	
      品牌：
      卡喏科技
      	
      型號：
      高真空磁控濺射鍍膜機
      	
      關注度：
      419
      					
				
      
			
      
			
      產品介紹
      
			
      
				
      
					
      主要技術指標
      ●靶材數量：2-4個
      ●基片尺寸：2-8英寸
      ●基片臺轉速：5-30rpm，轉速連續可調
      主要特點
      ●具有多個濺射靶，可沉積單層、多層薄膜、合金薄膜和摻雜薄膜；
      ●濺射方式：自下而上濺射、自上而下濺射可選；
      ●基片臺可加熱，可制備單晶薄膜；
      ●可選配輔助清洗離子源，有效提高薄膜的附著力；

      				
      
						
      
			
		
      
		
		
      
			
      
				
      
					
				
      
				
      產品咨詢
      
				
      
					
					
      
						
      高真空磁控濺射鍍膜機
      
						
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      高真空磁控濺射鍍膜機 - 419
      
				
			
      
			
      
				
      
					
					
					
									
      
					
      
					
      
			
		
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