粉體行業(yè)在線展覽
ALD薄膜沉積
面議
普諾遜
ALD薄膜沉積
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ALD薄膜沉積
規(guī)格&簡介
基底尺寸
6” wafer
應用領域
AI203,Hf02,Zro2.
VOx、TiO2,
MoOx.
SiO2,AIN,SixNy等
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037