粉體行業在線展覽
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多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650
直接聯系
北京泰科諾科技有限公司
北京
面議
北京泰科諾
多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650
1517
設備名稱：多功能磁控離子濺射復合鍍膜設備
設備型號：TSU650
真空腔室結構：立式圓柱形前開門，雙層水冷，多通用法蘭接口
真空腔室尺寸：Φ650mm×H650mm
工件架尺寸：Φ490mm，4-6 工位公 / 自轉工件架
工件架烘烤溫度：室溫～ 500±5℃，可調可控（PID 控溫）
工件架運動方式：公轉 0-5RPM 可調
輔助離子源：偏壓、線性離子源輔助（可選）
陰極：矩形磁控靶、柱狀靶、平面弧源、磁過濾弧源（可選） 國產或進口靶、或電源可選
控制方式：PLC 控制 / 工控機全自動控制可選
占地面積：主機 L2800mm×W1200mm×H1950mm
總功率：≥ 60kW
選購件：基片臺加熱系統、循環水機、膜厚控制系統等
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP500 高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500
高真空電子束蒸發鍍膜設備TEMD600
ZHDS400
納米超硬膜涂層設備GDM1000
納米超硬膜涂層設備GDM900
粉體鍍膜設備JGCF800
粉體鍍膜設備JGCF350
鈣鈦礦太陽能電池磁控鍍膜設備JCP700
真空電弧爐VDK250
多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200
高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
