粉體行業在線展覽
ALD-L 失效分析原子層沉積系統
面議
嘉興科民
ALD-L 失效分析原子層沉積系統
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L系列是科民電子專門為失效分析開發的薄膜沉積系統。系統具有獨特設計的流場和溫場,能夠在低于前驅體源加熱溫度的條件下完成ALD工藝。
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037