粉體行業在線展覽
PEALD-D 等離子增強型原子層沉積系統
面議
嘉興科民
PEALD-D 等離子增強型原子層沉積系統
309
PEALD系列原子層沉積系統是專門為先進半導體工藝開發的薄膜沉積系統,已在國內高校和科研院所裝機超百臺。
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037