粉體行業(yè)在線展覽
ALD-HS 高速原子層沉積系統(tǒng)
面議
嘉興科民
ALD-HS 高速原子層沉積系統(tǒng)
395
ALD-HS系列原子層沉積系統(tǒng)是專為在線連續(xù)生產(chǎn)開發(fā)的高速時間型原子層沉積系統(tǒng),適用于從200mm到2400mm的各種規(guī)格玻璃基板和硅片,通過在線傳輸系統(tǒng)上下料,大尺寸基板節(jié)拍可達30s。在高生產(chǎn)節(jié)拍的基礎上,保留時間型原子層沉積系統(tǒng)的所有優(yōu)點(高薄膜質(zhì)量、高致密性)
ALD-L 失效分析原子層沉積系統(tǒng)
ALD-TGV 玻璃基先進封裝原子層沉積系統(tǒng)
PALD 粉末型原子層沉積系統(tǒng)
鈣鈦礦光伏行業(yè)原子層沉積系統(tǒng)
ALD-HS 高速原子層沉積系統(tǒng)
PEALD-D 等離子增強型原子層沉積系統(tǒng)
TALD-D 雙腔熱型原子層沉積系統(tǒng)
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037