粉體行業(yè)在線展覽
實驗機E系列
面議
后浪實驗室
實驗機E系列
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E系列是針對科研機構(gòu)、高校實驗室及小批量試生產(chǎn)需求設(shè)計的高精度磁控濺射鍍膜設(shè)備,適用于新材料開發(fā)、功能薄膜制備(如導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜、光學(xué)膜等)以及精密器件表面改性研究。該設(shè)備采用模塊化架構(gòu),集成直流/射頻濺射電源、多靶位兼容系統(tǒng)與智能溫控模塊,支持反應(yīng)濺射工藝(如氧化物、氮化物薄膜沉積),可滿足金屬、合金、陶瓷及化合物納米級薄膜的制備需求。
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037