粉體行業(yè)在線展覽
表盤 真空鍍膜機
面議
金欣盛
表盤 真空鍍膜機
321
產品名稱:手表真空鍍膜機
原理: 物理氣相沉積,輝光放電
設備結構:單體,連續(xù)線
基材產品:塑料、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品、工藝品、塑料手機殼、電子產品等
膜層種類: 金屬膜、復合膜、導電膜、增反射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜
膜層特點: 膜層致命性高,均勻
設備特點: 設備運行中無任何有害氣體和廢液排放,對自然環(huán)境沒有污染;不銹鋼材質牢固耐用
常用靶材:鈦、鉻、不銹鋼,鎳,銅等
電源類型: 直流磁控電源、中頻磁控電源、高壓離子轟擊電源
工藝氣體: 氬氣、氮氣、乙炔、氧氣
備注:真空室尺寸可按照客戶產品或特殊工藝要求定做
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037