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鈦合金加工真空鍍膜設(shè)備
面議
金欣盛
鈦合金加工真空鍍膜設(shè)備
311
| 性能型號 | JXS-DSV-1416 | JXS-DSV-1618 | JXS-DSV-1822 | JXS-DSV-2030 | JXS-DSV-2236 | |
| 鍍膜室尺寸 | Ф1400×H1600mm | Ф1600×H1800mm | Ф1800×H2200mm | Ф2000×H3000mm | Ф2200×H3600mm | |
| 用于行業(yè) | 五金行業(yè)、裝飾裝潢行業(yè)、家用家電行業(yè)等 | |||||
| 用于產(chǎn)品 | 小五金行業(yè)等 | |||||
| 鍍膜效果 | 鈦金、玫瑰金、香檳金、日本金、炫銀、七彩、寶石蘭、玫瑰紅、黑色等 | |||||
| 真空室結(jié)構(gòu) | 立式前開門結(jié)構(gòu)配置抽氣系統(tǒng)及水冷系統(tǒng) | |||||
| 真空獲得系統(tǒng) | 擴(kuò)散泵 | ≥16000(L/s) | ≥26000(L/s) | ≥26000(L/s) | ≥36000(L/s) | ≥42000(L/s) |
| 羅茨泵 | ≥300(L/s) | ≥1200(L/s) | ≥1200(L/s) | ≥1200(L/s) | ≥1200(L/s) | |
| 機(jī)械泵 | ≥140(L/s) | ≥140(L/s) | ≥140(L/s) | ≥210(L/s) | ≥210(L/s) | |
| 維持泵 | ≥30(L/s) | ≥30(L/s) | ≥30(L/s) | ≥30(L/s) | ≥30(L/s) | |
| 備注 | 可根據(jù)客戶的要求進(jìn)行配置 | |||||
| 真空測量系統(tǒng) | 薄膜規(guī)(MKS)、冷陰極(MKS)、皮拉尼(MKS) | |||||
| 電源類型 | 直流電源、中頻電源、脈沖電源 | |||||
| 極限真空指標(biāo) | 空載冷態(tài) 1.0一 6.0×10-4Pa | |||||
| 電弧源 | ≥12臺 | ≥14臺 | ≥16臺 | ≥20臺 | ≥24臺 | |
| ≥200A | ≥200A | ≥200A | ≥200A | ≥200A | ||
| 偏壓電源 | ≥30KW | ≥30KW | ≥40KW | ≥40KW | ≥40KW | |
| 磁控電源 | ≥0 | ≥0 | ≥0 | ≥0 | ≥0 | |
| 工件轉(zhuǎn)動方式 | 多軸行星式公自轉(zhuǎn)、變頻調(diào)速(可控可調(diào)) | |||||
| 工件烘烤溫度 | 常溫-300℃至450℃-600℃可控可調(diào)(PID溫控) | |||||
| 工藝氣體 | 3路或4路工藝氣體流量控制及顯示系統(tǒng)選配自動加氣系統(tǒng) | |||||
| 氬氣、氮?dú)狻⒀鯕狻⒁胰驳?/td> | ||||||
| 冷卻方式 | 水冷卻循環(huán)方式,另配工業(yè)冷卻水塔或工業(yè)冷水機(jī)(制冷機(jī))或深冷系統(tǒng)。(客戶提供) | |||||
| 控制方式 | PLC+觸摸屏操作或計算機(jī)控制,手動、半自動、自動方式、 | |||||
| 供給指標(biāo) | 氣壓0.5-0.8MPa、水溫≤25℃、水壓≥0.2MPa、 | |||||
多弧離子鍍技術(shù)的工作原理主要基于冷陰極真空弧光放電理論。圖1為多弧離子鍍工作原理示意圖,點(diǎn)燃真空電弧后,陰極靶材表面上出現(xiàn)一些不連續(xù)、大小和形狀多樣、明亮的斑點(diǎn),它們在陰極表面迅速地做不規(guī)則的游動,一些斑點(diǎn)熄滅時又有些斑點(diǎn)在其他部位形成,維持電弧的燃燒。陰極斑點(diǎn)的電流密度達(dá)104~105A/cm2,并且以1000m/s的速度發(fā)射金屬蒸氣,其中每發(fā)射10個電子就可發(fā)射1個金屬原子,然后這些原子再被電離成能量很高的正離子(如Ti+),正離子在真空室內(nèi)運(yùn)行時與其他離子結(jié)合(如與N-形成TiN),沉積在工件表面形成涂層。
多弧離子真空鍍膜機(jī)
樓梯扶手護(hù)欄鍍膜設(shè)備
排氣管真空鍍膜機(jī)
皮帶扣真空鍍膜機(jī)
表盤 真空鍍膜機(jī)
水晶玻璃 真空鍍膜機(jī)
金欣盛發(fā)光字多弧離子真空鍍膜機(jī)
打火機(jī)真空鍍膜機(jī)
鈦合金加工真空鍍膜設(shè)備
餐具 真空鍍膜機(jī)
戒指 蒸發(fā) 真空鍍膜機(jī)
金欣盛陶瓷真空鍍膜設(shè)備
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機(jī)
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037