粉體行業在線展覽
<abbr id="epdyr"></abbr>
粉體行業在線展覽
HCD系列空心陰極離子鍍膜機
直接聯系
湖南辰皓真空科技有限公司
湖南
面議
辰皓真空
HCD系列空心陰極離子鍍膜機
316
設備特點
技術先:集成先進的新型弧源鍍膜技術和離子輔助前處理鍍膜技術；
性能強:采用全自動控制方式，先進的工藝流程控制模式，性能穩定優異操作簡易;
標準高:可鍍高質量、成膜致密、結合力好、硬度高的硬質涂層，大幅度提高使用壽命。
應用領域
該設備可制備 TiN、CrN、AICrN、ZrN、TiC、TiCN、TiAIN、TiAICN、DLC 膜等，非常適合生產企業大批量在刀具(鉆頭、銑刀、拉刀、絲錐、滾齒刀、車刀、刀粒等)、高精工模具(沖壓模具、剪切模具、成型模具、注塑模具等)及其他關鍵部件上鍍制單層/多層硬質涂層、耐腐蝕涂層等功能薄膜。
IBF系列等離子拋光機
JJP系列卷繞鍍膜機
微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
DH系列多弧離子鍍膜機
HCD系列空心陰極離子鍍膜機
JPLB-X400A-ITO/ISI 連續鍍膜生產線
GCE系列玻璃連續鍍膜線
LD系列單端連續芯片鍍膜生產線
PQT系列立式/臥式中、高溫集熱管排氣臺
SCS系列中溫/高溫集熱管鍍膜機
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
