粉體行業在線展覽
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粉體行業在線展覽
LD系列單端連續芯片鍍膜生產線
直接聯系
湖南辰皓真空科技有限公司
湖南
面議
辰皓真空
LD系列單端連續芯片鍍膜生產線
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設備特點
成膜好:采用磁控濺射方式，沉積速率快，膜層均勻致密、內應力小;
擴展強:采用模塊化設計，根據不同的工藝要求，可以靈活配備鍍膜腔體；
適用廣:設備可以配備不同的磁控陰極，如圓柱靶、平面靶、圓片靶；
產量大:連續鍍膜產線，生產效率高。
應用領域
可用于半導體表面制備各類金屬薄膜。
IBF系列等離子拋光機
JJP系列卷繞鍍膜機
微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
DH系列多弧離子鍍膜機
HCD系列空心陰極離子鍍膜機
JPLB-X400A-ITO/ISI 連續鍍膜生產線
GCE系列玻璃連續鍍膜線
LD系列單端連續芯片鍍膜生產線
PQT系列立式/臥式中、高溫集熱管排氣臺
SCS系列中溫/高溫集熱管鍍膜機
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
