粉體行業在線展覽
JPLB-X400A-ITO/ISI 連續鍍膜生產線
面議
辰皓真空
JPLB-X400A-ITO/ISI 連續鍍膜生產線
358
設備特點
成膜好:采用磁控濺射方式,沉積速率快,膜層均勻致密、內應力小;
適用廣:適用于多種膜系,工件可選擇單面或者雙面鍍膜
產量大:連續穩定的流水線作業,生產節拍快。產量大;
擴展強:整線為立式結構,基礎款為四腔體;可增加擴展腔體滿足各種工藝要求。
應用領域
適用于鍍制TTO、AZ0等透明導電薄膜,以及單質金屬Ti、Ag、Cu、Ni、等材料,主要應用于鈣鈦礦光伏電池板,平板顯示,車載玻璃等產品,成膜均勻性高,膜厚穩定性高,速率穩定性高。
IBF系列等離子拋光機
JJP系列卷繞鍍膜機
微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
DH系列多弧離子鍍膜機
HCD系列空心陰極離子鍍膜機
JPLB-X400A-ITO/ISI 連續鍍膜生產線
GCE系列玻璃連續鍍膜線
LD系列單端連續芯片鍍膜生產線
PQT系列立式/臥式中、高溫集熱管排氣臺
SCS系列中溫/高溫集熱管鍍膜機
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037