粉體行業在線展覽
微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
面議
辰皓真空
微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
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設備特點
配置高:核心零部件全進口;
操作省:上下料方便:
成本低:運行成本低,耗材使用壽命更長:
易調節:等離子球形狀可調節。
應用領域
適用于制備大尺寸寶石級單晶鉆石;高取向度金剛石晶體;納米結晶金剛石;碳納米管/類金剛石碳(DLC):MPCVD同樣適用于其它硬質材料如A0:,c-BN的薄膜沉積和晶體合成。
IBF系列等離子拋光機
JJP系列卷繞鍍膜機
微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
DH系列多弧離子鍍膜機
HCD系列空心陰極離子鍍膜機
JPLB-X400A-ITO/ISI 連續鍍膜生產線
GCE系列玻璃連續鍍膜線
LD系列單端連續芯片鍍膜生產線
PQT系列立式/臥式中、高溫集熱管排氣臺
SCS系列中溫/高溫集熱管鍍膜機
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037