粉體行業在線展覽
定制-RTR濺鍍
面議
毅睿
定制-RTR濺鍍
529
RTR濺鍍
| 主輥直徑 | 1,000mm(φ) x600/1500mm(D) |
| 真空室 | 5 chambers (Unwind、Pre-Heat、 Coating 、Cooling 、Rewind |
| 有效涂層寬度 | 1,350mm/500mm |
| 厚度 | 15~250μm |
| 速度 | 0.5~20M/min |
| 傳輸張力 | 2~7Kg @1~3 m/min |
| 對準 | ≤±2mm@1~3m/min |
| 濺射材料 | ITO 、Nb?O5,、SiO2、Si、NbzOX、Cu |
| 厚度均勻性 | ≤±3% |
| 靶材利用率 | 70% |
| 陰極 | Rotatable cathode 4~ 6 sets |
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037