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      分析儀器設備>
      
			
      半導體行業專用儀器
      
				
      >Primo Twin-Star? 12 英寸刻蝕設備
      
			
      
			
      
				
			
      
		
      
		
		
      
			
      
				
      Primo Twin-Star? 12 英寸刻蝕設備
      
				
      Primo Twin-Star? 12 英寸刻蝕設備
      
			
      
			
      
				
      
					
      
															
      
						
      
				
      
					
      直接聯系
      
					
      中微半導體設備（上海）股份有限公司
      
										
      上海
      
					
					
					
                    						
      
			
      
			
      產品規格型號
      
			
      
				
      
	
      參考報價：
      面議
      
	
      品牌：
      中微公司
      	
      型號：
      Primo Twin-Star? 12 英寸刻蝕設備
      	
      關注度：
      430
      					
				
      
			
      
			
      產品介紹
      
			
      
				
      
					
      產品特點
      雙反應臺腔體設計
      低電容耦合3D線圈設計
      高抽速大容量渦輪泵
      雙通道進氣
      精密的腔體溫控和RF窗口溫控系統
      先進的高致密性、耐等離子體侵蝕涂層工藝多區動態溫控靜電吸盤
      13兆赫或400千赫脈沖偏壓系統
      可選的集成除膠反應腔
      競爭優勢
      離子濃度和離子能量獨立可控
      高排氣量和更寬的工藝窗口
      優秀的刻蝕均勻性
      優異的高深寬比刻蝕性能
      高生產效率，低生產成本（CoO）

      				
      
						
      
			
		
      
		
		
      
			
      
				
      
					
				
      
				
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      Primo Twin-Star? 12 英寸刻蝕設備
      
						
      Primo Twin-Star? 12 英寸刻蝕設備
      
						 					
      
				
      
				
      
					
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      Primo Twin-Star? 12 英寸刻蝕設備 - 430
      
				
			
      
			
      
				
      
					
					
					
									
      
					
      
					
      
			
		
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