粉體行業(yè)在線展覽
PVD鍍膜設(shè)備
面議
丹科真空
PVD鍍膜設(shè)備
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PVD鍍膜設(shè)備是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣,氬氣樁基靶材,靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
PVD鍍膜設(shè)備常見的有多弧離子鍍膜設(shè)備,直流磁控濺射鍍膜設(shè)備,中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備等.
該類型設(shè)備是一種高效、無污染的離子鍍膜設(shè)備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點。
PVD鍍膜設(shè)備
柔性薄膜PVD卷繞鍍膜設(shè)備
蒸發(fā),磁控復(fù)合型鍍膜設(shè)備
衛(wèi)浴潔具專用鍍膜設(shè)備
陶瓷專用鍍膜設(shè)備
五金工具鍍膜設(shè)備
漸變膜鍍膜設(shè)備
多弧離子鍍膜設(shè)備.
大型不銹鋼鍍膜設(shè)備
輪轂專用鍍膜設(shè)備
玻璃專用鍍膜設(shè)備
高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037