粉體行業在線展覽
玻璃專用鍍膜設備
面議
丹科真空
玻璃專用鍍膜設備
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真空電弧離子鍍膜的原理是基于冷陰極自持弧光放電等離子體蒸發、電離鍍料,結合脈沖偏壓技術,提高沉積粒子能量和活性,增強膜層的各項性能。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進行鍍膜;
技術參數
真空室尺寸 | DK-1200×1500mm | DK-1400×1600mm | DK-1600×1800mm | DK-1800×1950mm | 2000×1950mm |
制膜種類 | 半透明膜、金、銀、紅、藍、綠、灰、黑、七彩等多種顏色 | ||||
電源類型 | 電阻加熱鎢絲蒸發變壓器電源、高壓離子轟擊電源、可控硅電源 | ||||
真空室結構 | 立式雙開門、立式單開門、臥式單開門、抽氣系統 | ||||
真空系統 | 機械泵+羅茨泵+擴散泵/分子泵+維持泵(或選配:深冷系統) | ||||
極限真空 | 8×10-4 pa(空載、凈室) | ||||
抽氣時間 | 空載大氣抽至5×10-2pa小于6分鐘 | ||||
工件旋轉方式 | 6軸/8軸/14軸公自轉/變頻無級調速 | ||||
控制方式 | 手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC | ||||
備注 | 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做 | ||||
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