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多弧離子鍍膜設(shè)備.
面議
丹科真空
多弧離子鍍膜設(shè)備.
404
該設(shè)備是一種高效、無(wú)污染的離子鍍膜設(shè)備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。
五金裝飾膜離子鍍膜機(jī)是一種高效、無(wú)污染的離子鍍膜設(shè)備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。
設(shè)備型號(hào) | DK-1000 | DK-1150 | DK-1200 | DK-1600 | |
真空室尺寸 | 1000×1200 | 1100×1200 | 1200×1400 | 1600×1800 | 1600×2200 |
制膜種類 | 金色氮化鈦、黑色碳化鈦、七彩氧化鈦、耐磨膜、超硬膜、金剛石膜、金屬裝飾膜等 | ||||
電源類型 | 直流電源、中頻電源、電弧電源、燈絲電源、活化電源、脈沖偏壓電源 | ||||
靶類型 | 多弧靶,選配中頻孿生柱靶或平面靶 | ||||
真空室結(jié)構(gòu) | 立式前開門結(jié)構(gòu)(雙層水套式或水槽式冷卻)、后置抽氣系統(tǒng) | ||||
真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵+羅茨泵+擴(kuò)散泵/分子泵+維持泵 | ||||
加熱系統(tǒng) | 常溫至350度可調(diào)可控(PID控溫),不繡鋼加熱管加熱 | ||||
充氣系統(tǒng) | 質(zhì)量流量控制儀(1-4路) | ||||
極限真空 | 6×10-4pa(空載、凈室) | ||||
抽氣時(shí)間 | 空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘 | ||||
保壓率 | 1h≤0.6pa | ||||
工件旋轉(zhuǎn)方式 | 上旋轉(zhuǎn)或下旋轉(zhuǎn)+公自轉(zhuǎn)變頻無(wú)級(jí)可控可調(diào),0-20轉(zhuǎn)/分 | ||||
控制方式 | 手動(dòng)+半自動(dòng)/觸摸屏+PLC | ||||
備注 | 真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做 | ||||
PVD鍍膜設(shè)備
柔性薄膜PVD卷繞鍍膜設(shè)備
蒸發(fā),磁控復(fù)合型鍍膜設(shè)備
衛(wèi)浴潔具專用鍍膜設(shè)備
陶瓷專用鍍膜設(shè)備
五金工具鍍膜設(shè)備
漸變膜鍍膜設(shè)備
多弧離子鍍膜設(shè)備.
大型不銹鋼鍍膜設(shè)備
輪轂專用鍍膜設(shè)備
玻璃專用鍍膜設(shè)備
高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037