粉體行業在線展覽
<abbr id="epdyr"></abbr>
粉體行業在線展覽
MOCVD 金屬有機化學氣相沉積設備
直接聯系
鵬城微納技術（沈陽）有限公司
沈陽
面議
鵬城微納
MOCVD 金屬有機化學氣相沉積設備
1774
MOCVD 金屬有機化學氣相沉積設備
可用于GaN、ZnO等的外延生長。
材料的輸運采取了超純的氣路系統，源的切換和輸入采用了多路組合閥進氣技術。由于組合閥具有極小的死空間，使得源的殘留量非常少，有利于生長具有陡峭界面的材料。
采用壓差控制技術控制組合閥的旁路和主路之間的壓力，大大降低了源的壓力和濃度波動，有利于材料生長的重復性和穩定性。
采用了管道鑲嵌式進氣噴頭，使反應源在襯底表面均勻混合并反應，大大降低了預反應的發生。
采用電阻式快速升降溫加熱爐。
團簇式OLED真空蒸鍍工藝裝備
金剛石散熱晶圓片
分子束外延薄膜生長設備(MBE)
MOCVD 金屬有機化學氣相沉積設備
PECVD 等離子體增強化學氣相沉積設備
LPCVD 低壓化學氣相沉積設備
HFCVD 熱絲化學氣相沉積設備
高真空電子束蒸發鍍膜機
高真空電阻熱蒸發鍍膜機
高真空磁控濺射儀
化合物半導體
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
