粉體行業在線展覽
無掩膜光刻機
面議
安徽澤攸
無掩膜光刻機
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澤攸科技ZML10A是一款創新的桌面級無掩膜光刻設備,專為高效、精準的微納加工需求設計。該設備采用高功率、高均勻度的LED光源,并結合先進的DLP技術,實現了黃光或綠光引導曝光功能,真正做到“所見即所得”,極大提升了操作便捷性和工藝可控性。其獨特的光路結構和高精度直線電機位移臺確保了**的曝光精度和重復定位能力,同時配備CCD相機逐場自動對焦系統,進一步優化了成像質量和工藝穩定性。設備支持電動物鏡切換和激光主動對焦功能,能夠靈活應對不同應用場景的需求。其緊湊的桌面小型化設計不僅節省空間,還便于在實驗室或生產環境中部署。此外,ZML10A配備了直觀易用的軟件界面,大幅降低了操作門檻,即使是初學者也能快速上手。無論是超材料結構、電極圖案還是微流控芯片等復雜微納結構的制備,ZML10A都能提供可靠的支持,是科研工作者和工業用戶的理想選擇。
技術特點
▲ 桌面小型化
▲ 高功率、高均勻度LED刻寫光源
▲ 綠光引導曝光,所見即所得
▲ CCD相機逐場圖像自動對焦
▲ 高精度直線電機位移臺
▲ 用戶友好,易于操作的軟件界面
光路遠離結構圖

主要指標

應用案例



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