粉體行業在線展覽
電子束光刻機
面議
安徽澤攸
電子束光刻機
2041
澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(EBL)采用場發射電子槍,配合一體化的高速圖形發生系統實現對半導體晶圓的高速、高分辨光刻。該系統標配高精度激光干涉樣品臺,允許用戶實現大行程高精度拼接和套刻需求,在新材料、前沿物理研究、半導體、微電子、光子、量子研究領域發揮重要作用。
產品特色
▲ 激光干涉樣品臺:先進的激光干涉樣品臺,滿足大行程高精度拼接和套刻需求
▲ 場發射電子槍:高分辨場發射電子槍是光刻質量的重要保證
▲ 圖形發生器:在保證超高速掃描的同時實現超高分辨率圖案繪制
樣品臺指標
應用案例

國產臺式場發射掃描電子顯微鏡
無掩膜光刻機
手動臺階儀 JS10C
ZEM20臺式掃描電鏡
電子束光刻機
ZS100A/200A/300A
全自動臺階儀JS2000C/3000C
SEM電池臺
ZEM Ultra場發射臺式掃描電鏡
透射電子顯微鏡樣品桿預抽存儲系統
SEM納米探針臺.
SEM冷凍真空傳輸系統
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037