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      >TFC-6650C化學氣相沉積（MPCVD）設備
      
			
      
			
      
				
			
      
		
      
		
		
      
			
      
				
      TFC-6650C化學氣相沉積（MPCVD）設備
      
				
      TFC-6650C化學氣相沉積（MPCVD）設備
      
			
      
			
      
				
      
					
      
															
      
						
      
				
      
					
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      參考報價：
      面議
      
	
      品牌：
      碳方程
      	
      型號：
      TFC-6650C化學氣相沉積（MPCVD）設備
      	
      關注度：
      1424
      					
				
      
			
      
			
      產品介紹
      
			
      
				
      
					
      TFC-6650C，微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備是***的 CVD 系統。針對用戶的具體要求設計和研制的一臺多用途、高穩定中等壓強微波等離子體綜合設備。它具有智能化生長、性能先進、功能完 善、結構合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點，特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領域。
      				
      
						
      
			
		
      
		
		
      
			
      
				
      
					
				
      
				
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      TFC-6650C化學氣相沉積（MPCVD）設備
      
						
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      TFC-6650C化學氣相沉積（MPCVD）設備 - 1424
      
				
			
      
			
      
				
      
					
					
					
									
      
					
      
					
      
			
		
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