粉體行業(yè)在線展覽
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PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設(shè)備
直接聯(lián)系
武漢普迪真空科技有限公司
湖北
面議
普迪真空
PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設(shè)備
461
產(chǎn)品摘要
該設(shè)備配備了多個(gè)磁控濺射源，能夠沉積金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料，并可用于濺射多層薄膜和共濺合金薄膜。
產(chǎn)品介紹
設(shè)備特點(diǎn)：
★一體化設(shè)計(jì)精細(xì)布局，更節(jié)省的空間和更精致的外形，可添加進(jìn)樣功能
★4支2-4英寸磁控濺射靶，可濺射2-8寸的硅片，托盤8英寸內(nèi)均勻性優(yōu)于±3％~±5%
★西門子PLC+觸摸屏手自動(dòng)控制或電腦+PLC全自動(dòng)控制可選
設(shè)備參數(shù)：
★腔體尺寸（L×W×Hmm)：1450×1250×1850/2200×1700×2200
★設(shè)備尺寸（L×W×Hmm)：500×500×500/600×600×500
★基片臺(tái)：襯底**加熱溫度500-800℃
★真空極限：5×10-5Pa
★抽速保壓：8×10-4Pa≤30min保壓12小時(shí)≤8pa
★托盤均勻性優(yōu)于±3％~±5%
★濺射靶槍四個(gè)（2-3英寸/2-4英寸）濺射尺寸2-6英寸
PD-600Q射頻等離子清洗機(jī)
PD-500/600電子束真空蒸鍍設(shè)備
PD-400高真空蒸鍍設(shè)備
PD-400C高真空磁控濺射
PD-400S/450S高真空蒸鍍設(shè)備(手套箱）
PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設(shè)備
ALD-100原子沉積設(shè)備
PD-500S/800S高真空蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備
PD-60/80MP微波等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-450/600H熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設(shè)備
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
