產品摘要

微波等離子體化學氣相沉積設備具有性能先進、功能完善、結構合理，使用方便、安全可靠、外形美觀，特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積(CVD);材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領域。

產品介紹

設備特點：

★微波系統微波頻率2450±25MHz 微波泄漏≤2 mw/cm2

★真空系統工作氣壓范圍0~250Torr,自動穩壓范圍40~250Torr

★氣路系統自帶四路MFC,可擴展至六路

★自帶缺水，缺氣，電源缺相，等離子體偏移，過溫過載，打火等自動保護，生產流程通過工藝配方自動控制，全自動溫度控制，氣壓控制等

★軟件配置西門子PLC+10寸西門子觸摸顯示屏，所有操作均可在觸摸屏上完成

設備參數：

★輸出功率：0.6kw~6kw /0.6kw~15kw 連續可調

★生長臺：沉積臺為80mm，高度為110mm/沉積臺為100mm，高度為110mm

★基片臺：電動升降式水冷直徑80mm鉬基片臺直徑≥50mm/電動升降式水冷直徑100mm鉬基片臺直徑≥75mm