產(chǎn)品摘要

該系列設(shè)備為鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、OLED、鋰電池、量子點(diǎn)LED、OPV等產(chǎn)業(yè)研發(fā)專用設(shè)備，設(shè)備可工藝制備納米級(jí)氧化物、氮化物、金屬等薄膜材料。該濺射系統(tǒng)對(duì)接手套箱系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全制備過(guò)程在無(wú)水無(wú)氧手套箱環(huán)境下進(jìn)行。PVD與Glove box硬件無(wú)縫對(duì)接，操控融合一體，實(shí)現(xiàn)試驗(yàn)樣品在真空手套箱環(huán)境中完成旋涂、濺射、測(cè)試等工藝流程。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點(diǎn)：

★系統(tǒng)可選擇配備低氣壓濺射技術(shù)，制備薄膜致密，對(duì)基底損傷小

★J濺射腔體采用SUS304不銹鋼材料，腔體內(nèi)表面包括屏蔽板全部鏡面拋光，可以獲得潔凈的工作環(huán)境和良好的真空度

★西門(mén)子PLC+觸摸屏手自動(dòng)控制或電腦+PLC全自動(dòng)控制可選

設(shè)備參數(shù)：

★腔體尺寸（L×W×Hmm)：1500×850×1900/1500×850×1900

★設(shè)備尺寸（L×W×Hmm)：440×440×450/550×440×450

★基片臺(tái)：**溫度 500℃ 控溫誤差±1℃

★真空極限：（2E﹣05）Pa

★抽速保壓：（8E﹣04）Pa≤20min保壓12小時(shí)≤5pa     

★托盤(pán)均勻性優(yōu)于±3％~±5%

★濺射靶可選取矩形靶（210mm×210mm/300mm×300mm）和圓形靶濺射尺寸