粉體行業(yè)在線展覽
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粉體行業(yè)在線展覽
PD-400C高真空磁控濺射
直接聯(lián)系
武漢普迪真空科技有限公司
湖北
面議
普迪真空
PD-400C高真空磁控濺射
433
產(chǎn)品摘要
該磁控濺射系統(tǒng)的用戶群體為科研院所與高校實驗室，核心部件均采用歐美知名品牌，技術(shù)先進(jìn)，性能穩(wěn)定，自動化程度高可替代進(jìn)口。
產(chǎn)品介紹
設(shè)備特點：
★兼容直流和射頻濺射源，濺射金屬、非金屬及化合物薄膜
★良好的薄膜均勻性和重復(fù)性，可沉積金屬、半導(dǎo)體和絕緣材料，可拓展沉積多層膜及復(fù)合膜
★3個3英寸圓形靶槍，桿狀安裝，共焦向上濺射
設(shè)備參數(shù)：
★腔體尺寸（L×W×Hmm)：850×1100×1900
★設(shè)備尺寸（L×W×Hmm)：400×400×380
★基片臺：**溫度 600℃控溫誤差±5℃
★真空極限：（5E﹣05）Pa
★抽速保壓：（8E﹣04）Pa≤30min保壓12小時≤8pa
★托盤均勻性優(yōu)于±3％~±5%
★濺射靶槍三個（2-3英寸）濺射尺寸2-4英寸
PD-600Q射頻等離子清洗機(jī)
PD-500/600電子束真空蒸鍍設(shè)備
PD-400高真空蒸鍍設(shè)備
PD-400C高真空磁控濺射
PD-400S/450S高真空蒸鍍設(shè)備(手套箱）
PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設(shè)備
ALD-100原子沉積設(shè)備
PD-500S/800S高真空蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備
PD-60/80MP微波等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-450/600H熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設(shè)備
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機(jī)
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
