粉體行業(yè)在線展覽
PD-400高真空蒸鍍設(shè)備
面議
普迪真空
PD-400高真空蒸鍍設(shè)備
558
產(chǎn)品摘要
PD-400高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備可配置4-6組蒸發(fā)源(可使用絲狀源與舟狀源),兼容金屬材料蒸發(fā)與有機材料蒸發(fā)(有機材料蒸發(fā)使用鎢籃與坩堝組合的蒸發(fā)源)。可用來制備金屬膜、有機膜及掃描電鏡制樣等。廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等,特別適合OPV 鈣鈦礦無機薄膜太陽能電池、半導(dǎo)體、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。
產(chǎn)品介紹
設(shè)備特點:
★性能**的蒸發(fā)電源;保證工藝穩(wěn)定性及高重復(fù)性
★專業(yè)真空蒸發(fā)電源,恒流/恒功率控制。電流、功率可以預(yù)先設(shè)置,可實現(xiàn)一鍵啟動和停止的自動控制功能
★系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏操作,整體美觀操作簡單,自動化程度高
★襯底可選擇加熱或水冷,源基距**350mm
設(shè)備參數(shù):
★腔體尺寸(L×W×Hmm):350×350×450
設(shè)備尺寸(L×W×Hmm):850×1100×1900
★真空極限:優(yōu)于(5E﹣05)Pa
抽速保壓:(8E﹣04)≤30min保壓12小時≤5pa
★膜厚均勻性優(yōu)異(±3%~±5%),重復(fù)性優(yōu)異(±3%~±5%)
★基片臺:120mm×120mm
★蒸發(fā)源:可搭配4~6組蒸發(fā)源(兼容金屬與有機),可共蒸或切換蒸發(fā)
PD-600Q射頻等離子清洗機
PD-500/600電子束真空蒸鍍設(shè)備
PD-400高真空蒸鍍設(shè)備
PD-400C高真空磁控濺射
PD-400S/450S高真空蒸鍍設(shè)備(手套箱)
PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設(shè)備
ALD-100原子沉積設(shè)備
PD-500S/800S高真空蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備
PD-60/80MP微波等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-450/600H熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設(shè)備
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037